微纳结构光学防伪膜设计与批量制备
发布时间:2025 年 01 月授权专利:9 项发表论文:13 篇
技术亮点与关键指标
- 特征结构尺寸 < 100nm,复制保真度 ≥ 95%
- 隐性编码可机读验真,防伪信息容量提升 10 倍
- 卷对卷产能 ≥ 500 万平方米/年
成熟度与合作方式
技术成熟度(TRL,1 原理概念 → 9 规模化应用)
TRL-6 · 中试与工程样机
可接受的合作方式
技术许可技术服务
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