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天津理工新材料 · 微纳光学中试与工程样机

微纳结构光学防伪膜设计与批量制备

发布时间:2025 年 01 月授权专利:9 项发表论文:13 篇

成果简介

建立微纳衍射结构设计-母版加工-紫外纳米压印批量复制的完整技术链,开发动态变色、隐性编码等多层级光学防伪膜产品。

技术亮点与关键指标

  • 特征结构尺寸 < 100nm,复制保真度 ≥ 95%
  • 隐性编码可机读验真,防伪信息容量提升 10 倍
  • 卷对卷产能 ≥ 500 万平方米/年

成熟度与合作方式

技术成熟度(TRL,1 原理概念 → 9 规模化应用)

TRL-6 · 中试与工程样机

可接受的合作方式

技术许可技术服务

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